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Ultrasuper DI जल CMOS सफाई मशीन वेफर 7LPM दो द्रव सफाई मशीन

उत्पाद का विवरण

उत्पत्ति के प्लेस: Dongguan, चीन

ब्रांड नाम: SHENHUA

प्रमाणन: CE,UL

मॉडल संख्या: CMC-800

भुगतान और शिपिंग की शर्तें

न्यूनतम आदेश मात्रा: एक सेट

मूल्य: negotiable

पैकेजिंग विवरण: वैक्यूम + प्लाईवुड मामले पैकेज, मामले का आकार: 1100 * 1300 * 2250 मिमी (एल * डब्ल्यू * एच)

प्रसव के समय: 30 ~ 40 दिन

भुगतान शर्तें: एल / सी, टी / टी, डी / पी, वेस्टर्न यूनियन, पेपैल, पैसा ग्राम

आपूर्ति की क्षमता: प्रति वर्ष 300 सेट

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उत्पाद का विवरण
प्रमुखता देना:

केन्द्रापसारक CMOS पानी की सफाई मशीन

,

7LPM पानी की सफाई मशीन

,

केन्द्रापसारक CMOS वेफर सफाई मशीन

सफाई विधि:
डबल फ्लूइड डि वाटरस्प्रे वॉश
सूखी विधि:
केन्द्रापसारक सूखा
सफाई की थाली:
φ <550 मिमी
डि पानी की आपूर्ति:
> 17MΩ (प्रवाह दर> 7RPM)
सफाई का दबाव:
3 ~ 8 किग्रा / सेमी 2
एयर फिल्टर:
1umx1pcs; 1umx1 पीसी; 0.01umx1pcs 0.01umx1 पीसी
मशीन का आकार:
एल 800 * डब्ल्यू 960 * एच 1800
मशीन वजन:
450 किलो
सफाई विधि:
डबल फ्लूइड डि वाटरस्प्रे वॉश
सूखी विधि:
केन्द्रापसारक सूखा
सफाई की थाली:
φ <550 मिमी
डि पानी की आपूर्ति:
> 17MΩ (प्रवाह दर> 7RPM)
सफाई का दबाव:
3 ~ 8 किग्रा / सेमी 2
एयर फिल्टर:
1umx1pcs; 1umx1 पीसी; 0.01umx1pcs 0.01umx1 पीसी
मशीन का आकार:
एल 800 * डब्ल्यू 960 * एच 1800
मशीन वजन:
450 किलो
उत्पाद का वर्णन

मशीन परिचय

सीएमसी-800 Ultrasuper DI वाटर CMOS क्लीनिंग मशीन वेफर 7LPM टू फ्लूइड क्लीनिंग मशीन मुख्य रूप से कैमरा मॉड्यूल उत्पादों जैसे: वेफर, सीएमओएस, होल्डर ... आदि पर सूक्ष्म धूल को साफ करने के लिए उपयोग किया जाता है।Oure DI वाटर स्कैन स्प्रे क्लीनिंग तकनीक का उपयोग करके, CMC-800 बहुत कम सूक्ष्म धूल को धोता है और 1000RPM सेंट्रीफ्यूगल ड्राई तकनीक का उपयोग करके, CMC-800 उत्पादों को जल्दी से सूखा बना सकता है।


मशीन की विशेषताएं:
1. विशेष रूप से कैमरा मॉड्यूल उत्पादों पर धूल साफ करने के लिए डिज़ाइन किया गया।
2. मिरर स्टेनलेस स्टील संरचना, साफ कमरे के लिए उपयुक्त।
3. साफ प्लेट विशेष रूप से उत्पादों के अनुसार बनाई जाती है, साफ प्लेट को विभिन्न उत्पादों की सफाई की आवश्यकता के अनुसार बदला जा सकता है।
4. पीएलसी नियंत्रण, आसान संचालन।
5. पारदर्शी विस्फोट प्रूफ सामने का दरवाजा, सुरक्षित संचालन, अवलोकन के लिए सुविधाजनक।
6. मीटर द्वारा प्रदर्शित सभी मशीन।सफाई की स्थिति पर समय-समय पर नजर रखी जा रही है।
7. 2 धारा स्वच्छ, उच्च सफाई सटीक, उत्पादों को कोई नुकसान नहीं, बहुत कम DI पानी की खपत।
8. स्प्रे रॉड घुमाएँ, कोई द्वितीयक प्रदूषण नहीं।
9. स्टैटिक एलिमिनेटर, क्लीनिंग रूम हीट डिवाइस से लैस, बेहतरीन सफाई परिणाम प्राप्त करने में मदद करता है।
10. 2-स्तरीय वायु निस्पंदन प्रणाली से लैस, संपीड़ित हवा ISO8573.1 के मानक को पूरा करती है।
11. कॉम्पैक्ट मशीन, छोटे फुट-प्रिंट।
12. शुद्ध DI पानी का उपयोग करें, RoHs मानक का अनुपालन करें।


मशीन युक्ति:

सफाई प्लेट कस्टम-निर्मित (सफाई प्लेट व्यास <550 मिमी)
स्वच्छ विधि 2 धारा साफ
शुष्क विधि उच्च गति केन्द्रापसारक शुष्क
बिजली की आपूर्ति एसी 380 वी 50 हर्ट्ज
शक्ति 7 किलोवाट
बिजली की खपत सफाई शक्ति: 3.5kw/एच स्टैंडबाय पावर: 1kw/h
शक्ति घुमाओ 3एचपी
पर्यावरण निस्पंदन विधि 0.3μm; 99.999%
वायु निस्पंदन विधि 1μm × 1; 0.01μm × 1
केन्द्रापसारक घूर्णन गति 100-1500 आरपीएम
स्वच्छ दबाव पानी का दबाव: 3-8Kgf/cm² हवा का दबाव: 0.2-0.5Mpa
डि पानी की आपूर्ति प्रवाह दर:>7LPM प्रतिरोधकता:>17MΩ
हवा की खपत दबाव: 0.45-0.7Mpa; प्रवाह दर:> 30m³/H (अच्छी सफाई)
डि पानी व्यास में चलो ø12 मिमी नरम नली या पीटी 1/2 "महिला संयुक्त
वायु आपूर्ति व्यास ø12mm नली
जल निकासी व्यास पीटी 1 "महिला संयुक्त
वायु निकास व्यास 4″×2 (एयर-पंपिंग डिवाइस की जरूरत है, 3m/sec से अधिक हवा की गति)
मशीन का आकार 880 मिमी (एल) × 960 मिमी (डब्ल्यू) × 1880 मिमी (एच)
मशीन वजन 450 किलो

 
मशीन चित्र:

 

Ultrasuper DI जल CMOS सफाई मशीन वेफर 7LPM दो द्रव सफाई मशीन 0

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